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消息称中芯国际正寻求与阿斯麦就EUV光刻设备进行谈判

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12月19日消息,据国外媒体报道,晶圆代工企业中芯国际(SMIC)正在努力获得关键的极紫外(EUV)光刻设备,以开发7nm以下制程技术。

业内观察人士表示,在新任副董事长蒋尚义的帮助下,中芯国际正寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦(ASML)就EUV光刻设备进行谈判。

据报道,中芯国际计划使用EUV光刻机,生产基于7nm以下制程技术的芯片产品。最近,有媒体报道,该公司已经从20nm工艺过渡到3nm工艺,唯一缺的就是EUV光刻机。有了EUV光刻机,该公司就可以量产3nm芯片。

阿斯麦的总部位于荷兰的费尔德霍芬,生产基地和研发设施则位于康涅狄格州、加州、中国台湾和荷兰,科技发展中心及训练设施位于日本、韩国、荷兰、中国台湾和美国。

该公司服务的客户为全球主要的半导体制造商,打造在电力电子、通信和信息技术产品中广泛应用的芯片。

目前,只有阿斯麦能造极紫外光刻机。据悉,三星电子、英特尔和台积电等都采购了该公司的极紫外光刻设备。今年4月份,调查公司Omdia表示,阿斯麦去年交付了26台极紫外光刻机,其中约一半面向大客户台积电。

然而,报道称,中芯国际一直难以从阿斯麦那获得极紫外光刻设备,尽管阿斯麦在法律上不受某些约束条件的影响,但仍有顾虑。

中芯国际及其控股子公司是集成电路晶圆代工企业之一,提供0.35微米到14纳米不同技术节点的晶圆代工与技术服务。

昨日晚间,美国商务部发布公告称,商务部工业和安全局(BIS)将中芯国际列入实体名单,以限制其获取美国关键技术的能力。

美国商务部称,中芯国际被列入实体名单后,美国出口商必须申请许可证才能向该公司销售产品。(小狐狸)

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